Menlo Systems YLMO Femtosecond Fiber Laser
1045 nm, 4 W 이상 출력과 80 fs 미만 펄스를 제공하는 생명과학 및 다광자 응용용 고출력 펨토초 레이저
(Menlo Systems)
Menlo Systems YLMO는 생명과학 이미징과 다광자 응용을 위해 설계된 1045 nm 고출력 펨토초 파이버 레이저입니다. 1045±10 nm의 중심 파장에서 100 MHz 기준 4 W 이상의 평균 출력과 40 nJ 이상의 펄스 에너지를 제공하며, 80 fs 이하의 초단 펄스를 통해 효율적인 다광자 여기와 높은 신호 세기를 구현할 수 있습니다. 반복률은 적용 분야에 따라 80~100 MHz 범위에서 공장 설정되며, 자유공간 방식의 p-편광 출력과 일반값 23 dB의 편광 소광비를 제공해 현미경과 비선형 광학 시스템에 안정적으로 통합할 수 있습니다.
YLMO는 펄스를 사전 처프하여 현미경 내부의 광학 부품을 통과한 후 실제 시료 위치에서 가장 짧은 펄스가 형성되도록 구성할 수 있습니다. 이를 통해 다광자 신호를 높이면서 불필요한 평균 출력과 시료 가열을 줄일 수 있으며, 내장형 AOM을 이용한 고속 진폭 변조 기능으로 스캐닝 위치와 측정 과정에 맞춰 레이저 출력을 빠르게 제어할 수 있습니다. 따라서 다광자 현미경, 2광자 여기, 생체 조직 이미징, 형광 측정 및 다양한 생명과학용 초고속 레이저 시스템에 적합합니다.
Menlo Systems의 figure 9® 기술은 전원을 켠 후 60초 이내에 안정적인 단일 모드 락킹 상태로 동작하도록 하며, 전편광유지(All-PM) 파이버 구조는 진폭 및 위상 노이즈를 낮추고 장시간 일관된 출력 특성을 유지합니다. 소형 레이저 헤드와 조용한 운전, 견고한 구조를 갖췄으며 버튼 하나로 가동할 수 있는 간편한 운용 방식과 유지보수가 거의 필요 없는 설계를 통해 연구실뿐만 아니라 장시간 연속 운전이 필요한 산업 및 OEM 시스템에도 적용할 수 있습니다.
특징
■ 1045 nm 중심 파장에서 작동하는 고출력 펨토초 파이버 레이저
■ 100 MHz에서 >4 W의 높은 평균 출력 제공
■ 80–100 MHz 범위에서 조절 가능한 가변 반복률
■ <80 fs의 짧은 펨토초 펄스 폭
■ >40 nJ의 높은 펄스 에너지 제공
■ 까다로운 운용 환경에서도 신뢰도 높은 레이저 출력 안정성
■ 낮은 진폭 및 위상 노이즈를 통한 깨끗한 펨토초 펄스 출력
■ All-PM 파이버 구조를 적용한 장시간 안정적이고 견고한 운용
■ Menlo figure 9® Technology 적용
■ 단일 모드 락킹 상태를 유지하는 안정적인 레이저 작동
■ 전원 인가 후 <60초 이내에 레이저 출력 제공
■ 사용자 설정형 프리처프 펄스 압축기 지원
■ 열악한 환경에서도 안정적으로 작동하는 견고한 레이저 설계
■ 빠르고 간편한 설치로 실험 및 산업용 시스템에 손쉽게 통합
■ 유지보수가 필요 없는 펨토초 파이버 레이저 시스템
■ 컴팩트한 레이저 헤드와 저소음 운용
■ 직관적인 전면 패널과 사용하기 쉬운 소프트웨어 인터페이스
주요 어플리케이션
- ■ Multi-Photon Excitation
- ■ Optogenetic Photoactivation
- ■ Single Cell Engineering
- ■ Two-Photon Polymerization
성능 데이터
Amplitude Noise
YLMO Laser: < 0.5% rms (over 15 h in ambient temperature)
YLMO with Amplifier: < 1% rms (over 12 h in ambient temperature, YLMO seeding Menlo BlueCut)
제품 사양
Model | YLMO |
Center Wavelength | 1045 nm ± 5 nm |
Pulse Width | <80 fs |
Average Power | >4 W (@ 100 MHz) |
Pulse Energy | >40 nJ |
Repetition Rate | factory set between 80-100 MHz, ± 1 MHz |
Bandwidth | >30 nm |
Output Port | free space |
Polarization | p-pol. in free space (PER: typ. 23 dB) |
Beam Diameter | 2.0 mm ± 0.5 mm |
Beam Divergence | <2 mrad |
Beam Quality | M² <1.2 (typ. <1.1) |
Dispersion Control | 0 fs² ... - 30. 000 fs² |
Fast Amplitude Modulation | Integrated AOM for fast amplitude control |
Requirements and Dimensions | |
Operating Voltage | 110 / 115 / 230 VAC, 50 to 60 Hz |
Max. Power Consumption | 200 W |
Operating Temperature | 15 °C - 30 °C |
Laser Head | 265 x 110 x 76 mm³ / <5 kg |
Control Unit | 19”, 2 HU (449 x 496 x 96 mm3 ), <20 kg |
Umbilical Cord Length | 2 m* |
Interfaces | USB, Interlock, Trigger-Out |
*Please inquire your specific umbilical cord lengths.
옵션
- ■ Fast Amplitude Modulation
관련 제품
- 중심 파장 (Central Wavelength) : 1045 nm ± 10 nm
- 평균 출력 (Average Power) : > 4 W (@ 100 MHz)
- 펄스 에너지 (Pulse Energy) : > 40 nJ
- 펄스 폭 (Pulse Width) : < 80 fs
- 중심 파장 (Central Wavelength) : 520 nm ± 5 nm
- 평균 출력 (Average Power) : > 500 mW (higher output power on request)
- 펄스 에너지 (Pulse Energy) : > 5 nJ
- 펄스 폭 (Pulse Width) : < 150 fs
- 중심 파장 (Central Wavelength) : 930 nm ± 10 nm
- 평균 출력 (Average Power) : > 0.5 W
- 펄스 에너지 (Pulse Energy) : > 10 nJ
- 펄스 폭 (Pulse Width) : < 140 fs, (typ. < 120 fs)
- 중심 파장 (Central Wavelength) : factory set between 1030 nm and 1064 nm, ± 1 nm
- 평균 출력 (Average Power) : > 200 mW (@ 50 MHz)
- 펄스 에너지 (Pulse Energy) : > 4 nJ
- 펄스 폭 (Pulse Width) : chirped, supporting < 150 fs
- 파장 범위 (Wavelength Range) : 3 – 5 µm (tunable within this range, other wavelength on request)
- 평균 출력 (Average Power) : > 100 mW in selected spectrum (> 100 mW 3.0 – 4.0 µm, above 4.0 µm best effort)
