Menlo Systems YLMO 520 Femtosecond Fiber Laser
520 nm에서 500 mW 이상, 1040 nm에서 4 W 이상 출력을 제공하는 3D 나노프린팅 및 다광자 현미경용 듀얼 컬러 펨토초 레이저
(Menlo Systems)
Menlo Systems YLMO 520은 이터븀 도핑 펨토초 파이버 레이저에서 생성된 1040 nm 기본파를 주파수 배가하여 520 nm 초단 펄스를 제공하는 고출력 펨토초 레이저 시스템입니다. 520 nm에서 500 mW 이상의 평균 출력과 5 nJ 이상의 펄스 에너지, 150 fs 이하의 펄스 폭을 제공하며, 출력이 더 필요한 경우에는 별도 구성을 협의할 수 있습니다. 100 MHz 반복률과 2 mrad 미만의 빔 발산각, M²<1.2의 우수한 빔 품질을 갖춰 미세한 영역에 높은 피크 출력을 안정적으로 집속할 수 있으며, 자유공간 방식의 선형 s-편광 출력을 통해 현미경, 레이저 가공 및 비선형 광학 시스템에 직접 통합할 수 있습니다.
YLMO 520은 520 nm 주파수 배가 출력뿐만 아니라 1040 nm 기본파도 함께 활용할 수 있다는 점에서 일반적인 단일 파장 펨토초 레이저와 차별화됩니다. 보조 출력 포트에서는 1040 nm에서 4 W 이상의 평균 출력과 100 fs 이하의 펄스를 제공하며, 두 파장 사이의 출력 분배 비율을 실험 조건에 맞게 조절할 수 있어 이중 파장 여기, 펌프-프로브 분광 및 다단계 비선형 광학 실험을 하나의 레이저 시스템으로 구성할 수 있습니다. 특히 520 nm의 높은 광자 에너지와 초단 펄스가 필요한 다광자 여기 현미경, 2광자 중합 기반 3D 프린팅과 나노구조 제작, 형광 이미징 및 정밀 미세가공에 적합하며, 1040 nm 출력은 별도의 여기광이나 펌프광으로 활용할 수 있습니다.
전편광유지(All-PM) 파이버 구조와 Menlo Systems의 안정적인 figure 9® 모드 락킹 기술은 환경 변화에 대한 민감도를 낮추고 장시간 일관된 펄스 성능을 유지하도록 설계되었습니다. 24시간 기준 0.5% rms 미만의 진폭 노이즈와 높은 재현성을 제공하므로 장시간 연속 측정이 필요한 생명과학 이미징과 분광 실험뿐만 아니라, 안정성과 반복성이 중요한 산업용 3D 프린팅 및 OEM 레이저 시스템에도 적용할 수 있습니다.
특징
- ■ 520 nm와 1040 nm를 동시에 출력하는 듀얼 컬러 펨토초 파이버 레이저
■ 520 nm에서 >500 mW, 1040 nm에서 >4 W의 높은 출력 제공
■ 100 MHz의 반복률로 안정적인 초고속 펄스 출력
■ 520 nm에서 <150 fs, 1040 nm에서 <100 fs의 초단 펄스 폭
■ 두 파장 출력 간 분배비를 자유롭게 설정할 수 있는 유연한 파워 스플리팅
■ figure 9® Technology와 All-PM 구조를 적용한 안정적인 모드 락킹
■ 유지보수 없이 장시간 안정적인 레이저 운용 지원
■ 견고한 소형 레이저 헤드와 저소음 운용 설계
주요 어플리케이션
- ■ Two-Photon Polymerization (3D Printing)
- ■ Multiphoton Microscopy
- ■ Pump Probe Spectroscopy
성능 데이터
■ Amplitude Noise < 0.5% rms (over 24h)
■ Reproducibility: Identical and Consistent Laser Performance
■ Optical Performance: Autocorrelation and Optical Spectrum
제품 사양
Model | YLMO 520 |
Center Wavelength | 520 nm ± 5 nm |
Pulse Width - FWHM | < 150 fs (Gaussian) |
Average Power* | > 500 mW (higher output power upon request) |
Pulse Energy | > 5 nJ |
Repetition Rate* | 100 MHz |
Output Port | free space |
Polarization | linear, s-polarized |
Beam Divergence | <2 mrad |
Beam Quality | M² <1.2 (typ. <1.1) |
Auxiliary Output Port** | free space, > 4W average power, 1040 nm, <100 fs |
Requirements and Dimensions | |
Operating Voltage | 100-120 V (50/60 Hz), 220-240 V (50/60 Hz) |
Max. Power Consumption | 200 W |
Operating Temperature | 15 °C - 30 °C |
Laser Head | 265 x 220 x 113 mm³ / <10 kg |
Control Unit | 19”, 2 HU (449 x 496 x 96 mm³), <20 kg |
Umbilical Cord Length | 2 m*** |
Interfaces | USB, Interlock, Trigger-Out |
*Please inquire for your specific combinations of average output power, pulse duration, repetition rate.
**User can switch between 520 nm and 1040 nm port (arbitrary splitting ratios possible).
*Please inquire for your specific umbilical cord lengths.
옵션
- ■ Fast Amplitude Modulation
관련 제품
- 중심 파장 (Central Wavelength) : 1045 nm ± 10 nm
- 평균 출력 (Average Power) : > 4 W (@ 100 MHz)
- 펄스 에너지 (Pulse Energy) : > 40 nJ
- 펄스 폭 (Pulse Width) : < 80 fs
- 중심 파장 (Central Wavelength) : 520 nm ± 5 nm
- 평균 출력 (Average Power) : > 500 mW (higher output power on request)
- 펄스 에너지 (Pulse Energy) : > 5 nJ
- 펄스 폭 (Pulse Width) : < 150 fs
- 중심 파장 (Central Wavelength) : 930 nm ± 10 nm
- 평균 출력 (Average Power) : > 0.5 W
- 펄스 에너지 (Pulse Energy) : > 10 nJ
- 펄스 폭 (Pulse Width) : < 140 fs, (typ. < 120 fs)
- 중심 파장 (Central Wavelength) : factory set between 1030 nm and 1064 nm, ± 1 nm
- 평균 출력 (Average Power) : > 200 mW (@ 50 MHz)
- 펄스 에너지 (Pulse Energy) : > 4 nJ
- 펄스 폭 (Pulse Width) : chirped, supporting < 150 fs
- 파장 범위 (Wavelength Range) : 3 – 5 µm (tunable within this range, other wavelength on request)
- 평균 출력 (Average Power) : > 100 mW in selected spectrum (> 100 mW 3.0 – 4.0 µm, above 4.0 µm best effort)
