Menlo Systems ELMO 780 XHP Femtosecond Fiber Laser 

780 nm에서 최대 1.5 W 출력과 150 fs 미만 펄스 및 고속 AOM 변조를 제공하는 2광자 나노가공 및 다광자 현미경용 OEM 레이저 

(Menlo Systems) 

Menlo Systems ELMO 780 XHP는 2광자 중합과 다광자 현미경처럼 높은 평균 출력과 짧은 펄스를 동시에 요구하는 응용을 위해 개발된 780 nm 고출력 펨토초 파이버 레이저입니다. 중심 파장은 780±10 nm이며 최대 1.5 W의 평균 출력과 최단 100 fs 수준의 펄스를 제공합니다. 데이터시트 기준 출력은 1 W 초과, 일반값 1.2 W이고 펄스 폭은 150 fs 미만, 일반값 120 fs이며, 100±1 MHz의 반복률과 M²<1.2의 우수한 자유공간 빔을 통해 빠른 가공과 이미징에 필요한 안정적인 펄스 에너지를 전달합니다. Menlo Systems의 figure 9® 기술을 기반으로 낮은 진폭·위상 노이즈와 높은 반복 재현성을 확보했으며, 장시간 운용에서도 0.5% rms 미만의 출력 변동을 유지해 연속 생산 공정이나 장시간 현미경 측정에도 적합합니다.

ELMO 780 XHP의 중요한 차별점은 높은 출력뿐만 아니라 펄스를 실제 시료와 공정에 전달하는 과정까지 고려했다는 데 있습니다. 레이저 헤드에 AOM이 통합되어 있어 외부 변조기를 별도로 정렬하지 않고 0~5 V 아날로그 신호로 출력을 빠르게 제어할 수 있으며, 상승·하강 시간은 300 ns 미만, 일반적으로 180 ns입니다. 따라서 3D 나노프린팅에서는 스캐너의 이동과 레이저 조사를 동기화해 구조물의 각 위치에 필요한 에너지만 전달할 수 있고, 다광자 현미경에서는 관찰 영역과 시료 상태에 따라 여기광을 빠르게 조절할 수 있습니다. 또한 렌즈와 대물렌즈, 광학 부품을 통과하면서 발생하는 분산을 최대 −30,000 fs²까지 사전 보상하므로, 레이저에서 나온 짧은 펄스가 시료에 도달하기 전에 늘어나는 현상을 줄일 수 있습니다. 이는 시료 위치에서 높은 비선형 여기 효율을 유지하면서 불필요한 열 발생과 주변 영역의 손상을 줄이는 데 중요한 역할을 합니다.

시스템은 240×170×79.5 mm 크기의 소형 레이저 헤드와 19인치 2U 컨트롤 유닛으로 구성되며, 두 장치는 엄빌리컬 케이블로 영구 연결되어 OEM 장비 내부에 레이저 헤드만 배치하고 제어부는 랙에 설치할 수 있습니다. 기본 출력은 선형 s편광의 780 nm 자유공간 빔이며, 필요에 따라 기본파인 1560 nm 출력을 최대 1 W까지 추가하거나 별도의 SHG 모듈을 이용해 390 nm에서 100 mW 초과, 최대 300 mW의 출력을 구성할 수 있습니다. 780 nm와 390 nm의 출력 분배 비율도 요청에 따라 조정할 수 있고, MULTIBRANCH 옵션을 적용하면 추가 시드 및 증폭 출력 포트를 구성해 여러 파장을 하나의 레이저 플랫폼에서 사용할 수 있습니다. 60초 미만의 짧은 예열 시간과 USB 소프트웨어 제어도 지원하므로 2광자 중합, 3D 나노프린팅과 포토닉 와이어 본딩뿐만 아니라 다광자 현미경, 초고속 분광, THz 발생 및 증폭기 시딩 시스템에도 유연하게 통합할 수 있습니다.

특징

• ■ 780 nm에서 >1 W, 최대 1.5 W의 고출력을 제공하는 펨토초 광섬유 레이저
  ■ 선택 사양으로 1560 nm에서 최대 1 W 출력 지원
  ■ 780 nm에서 <150 fs의 초단 펄스 제공
  ■ 100 MHz 반복률 지원
  ■ AOM과 Chirp Control이 통합된 컴팩트 레이저 헤드
  ■ 통합형 AOM을 통한 고속 진폭 변조와 동적 레이저 출력 제어
  ■ 최대 −30,000 fs²의 내장형 분산 사전 보정 기능
  ■ 낮은 진폭 잡음과 위상 잡음
  ■ 높은 출력 안정성과 figure 9® 기술 적용

적용 분야

• ■ 3D Nano Printing 
• ■ Multi-Photon Microscopy 
• ■ Ultrafast Spectroscopy 
• ■ THz Generation & THz Physics 

성능 데이터

Amplitude Noise, Reliability Testing, Optical Performance and more

제품 사양

*Control unit and laser head permanently interconnected by umbilical cord 

** Analog input 0-5 V, rise-/fall-time < 300 ns (typ. 180 ns) 

*** >100 mW @390 nm (up to 300 mW), arbitrary splitting ratio between 780 nm and 390 nm on request

옵션 

• - 390 nm 출력 포트:
•    추가 SHG 모듈 포함:
•    390 nm 자유공간(free-space) 출력, 최대 30 mW

- VARIO: 사용자 정의 반복

   공장에서 설정된 값으로, 50-250 MHz 범위에서 선택 가능

관련 제품 

ELMO 

 - 중심 파장 (Central Wavelength) : 1560 nm ± 30 nm

 - 평균 출력 (Average Power) : up to 60 mW

 - 펄스 폭 (Pulse Width) : < 150 fs (typ. 100 fs)

ELMO HIGH POWER (ELMO HP) 

 - 중심 파장 (Central Wavelength) : 1560 nm ± 30 nm

 - 평균 출력 (Average Power) : > 180 mW

 - 펄스 폭 (Pulse Width) : < 60 fs (typ. 45 fs)

ELMO HIGH POWER-FS (ELMO HP-FS)

 - 중심 파장 (Central Wavelength) : 1560 nm ± 30 nm

 - 평균 출력 (Average Power) :  > 330 mW

 - 펄스 폭 (Pulse Width) : < 90 fs (typ. 70 fs)

ELMO 780

 - 중심 파장 (Central Wavelength) : 780 nm ± 10 nm

 - 평균 출력 (Average Power) : > 75 mW (typ. 85 mW)

 - 펄스 폭 (Pulse Width) : < 100 fs (typ. 85 fs)

ELMO 780 HIGH POWER (ELMO 780 HP)

 - 중심 파장 (Central Wavelength) : 780 nm ± 10 nm

 - 평균 출력 (Average Power) : > 140 mW (typ. 165 mW)

 - 펄스 폭 (Pulse Width) : < 100 fs (typ. 85 fs)

ELMO 780 XHP

 - 중심 파장 (Central Wavelength) : 780 nm ± 10 nm

 - 평균 출력 (Average Power) : > 1 W (typ. 1.2 W)

 - 펄스 폭 (Pulse Width) : < 150 fs (typ.120 fs)

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