Ultrafast Lasers → Femtosecond Fiber Lasers → High-Power OEM Femtosecond Lasers
Menlo Systems ELMO 780 XHP Femtosecond Fiber Laser
780 nm에서 최대 1.5 W 출력과 고속 진폭 변조를 지원하는 초소형 OEM 레이저
Menlo Systems ELMO 780 XHP는 780 nm에서 1 W 이상의 평균 출력과 150 fs 이하의 펄스폭을 제공하는 고출력 OEM 펨토초 파이버 레이저입니다. 일반 출력은 1.2 W이며 최대 1.5 W까지 지원해, 높은 피크 출력이 필요한 다광자 현미경, 3D 나노 프린팅, 초고속 분광 및 테라헤르츠 연구에 적합합니다.
ELMO 780 XHP는 소형 레이저 헤드와 19인치 제어장치를 하나의 시스템으로 구성하면서도 동급 성능의 대형 레이저보다 설치 공간을 크게 줄였습니다. 내부에 AOM 기반 고속 진폭 변조 기능을 통합해 0–5 V 아날로그 입력으로 광출력을 동적으로 제어할 수 있으며, 상승·하강 시간은 <300 ns, 일반적으로 180 ns입니다. 또한 최대 −30,000 fs²의 분산 사전 보상 기능을 통해 현미경 대물렌즈와 추가 광학계에서 발생하는 펄스 확장을 보정할 수 있습니다.
기본 출력은 780 nm 자유 공간 출력이며, 옵션으로 1560 nm 기본파 출력과 390 nm 제2고조파 출력을 추가할 수 있습니다. 1560 nm 출력은 최대 1 W, 390 nm 출력은 추가 SHG 박스 구성 시 최대 300 mW를 지원하며, 780 nm와 390 nm 사이의 출력 분배 비율도 요구 조건에 맞게 설정할 수 있습니다. MULTIBRANCH 옵션을 사용하면 추가 발진기·증폭기 출력 포트를 구성해 여러 파장이나 증폭기 시스템으로 확장할 수 있습니다.
figure 9® 기술을 기반으로 안정적인 모드 잠금과 낮은 진폭·위상 잡음을 구현하며, 24시간 기준 진폭 잡음은 <0.5% rms입니다. 전원 인가 후 60초 이내에 출력을 시작할 수 있고, 소프트웨어와 USB를 통한 제어를 지원해 산업용 OEM 장비와 연구용 광학 시스템에 직접 통합하기 좋습니다.
제품 특징
■ 780 nm 고출력 펨토초 레이저
- 780 nm ± 10 nm 중심 파장에서 >1 W의 평균 출력과 <150 fs의 펄스폭을 제공합니다.
■ 최대 1.5 W 출력
- 일반 출력은 1.2 W이며, 구성에 따라 780 nm에서 최대 1.5 W까지 지원합니다.
■ 초단 펄스 출력
- 펄스폭은 <150 fs, 일반적으로 120 fs이며, 제품 소개 기준 최대 출력 구성에서 100 fs까지 지원합니다.
■ 고속 진폭 변조
- 통합 AOM을 통해 0–5 V 아날로그 입력으로 광출력을 제어할 수 있으며, 상승·하강 시간은 <300 ns, 일반적으로 180 ns입니다.
■ 분산 사전 보상
- 최대 −30,000 fs²의 분산 사전 보상 기능으로 현미경 대물렌즈 및 추가 광학계의 분산을 보정할 수 있습니다.
■ 1560 nm 출력 옵션
- 추가 포트를 통해 1560 nm 기본파를 최대 1 W의 자유 공간 출력으로 사용할 수 있습니다.
■ 390 nm 출력 옵션
- 추가 SHG 박스 구성 시 390 nm 자유 공간 출력을 최대 300 mW까지 지원합니다. 780 nm와 390 nm 사이의 출력 분배 비율은 요청에 따라 설정할 수 있습니다.
■ 다중 출력 포트 구성
- MULTIBRANCH 옵션으로 추가 발진기·증폭기 출력 포트를 구성하고 여러 증폭기 또는 파장 변환 시스템에 연결할 수 있습니다.
■ 높은 안정성과 낮은 잡음
- 24시간 기준 진폭 잡음 <0.5% rms로 안정적인 장시간 실험을 지원합니다.
■ figure 9® 모드 잠금 기술
- 재현성 있는 모드 잠금과 장기 안정적인 레이저 동작을 제공합니다.
■ 초소형 OEM 구성
- 컴팩트한 레이저 헤드와 19인치 제어장치로 구성되어 동급 성능의 대형 레이저보다 설치 공간을 줄일 수 있습니다.
■ 빠른 기동
- 전원 인가 후 60초 이내에 레이저 출력을 시작할 수 있습니다.
■ OEM 시스템 통합
- 소프트웨어와 USB 통신을 지원하며, 제어장치와 레이저 헤드는 전용 연결 케이블로 일체화되어 있습니다.
주요 응용 분야
- ■ 3D Nano Printing
- ■ Multi-Photon Microscopy
- ■ Ultrafast Spectroscopy
- ■ THz Generation & THz Physics
성능 데이터
Amplitude Noise, Reliability Testing, Optical Performance and more
제품 사양
Model | ELMO 780 XHP |
Specifications | |
Contained Modules * | 19“ control unit, compact laser head |
Output Characteristics 780nm | |
Center Wavelength | 780 ± 10 nm |
Average Power | > 1 W (typ. 1.2 W) |
Pulse Width | < 150 fs (typ.120 fs) |
Repetition Rate | 100 MHz +/-1MHz |
Output Port | free space |
Beam Quality | M² < 1.2 |
Polarization | linear, s-polarized |
Dispersion Precompensation | up to -30.000 fs² |
Fast Amplitude Modulation** | integrated AOM for fast light modulation |
Options | |
1560 nm Output Port | free space, up to 1W |
Multiple Output Ports | please inquire for additional oscillator/amplifier output ports |
Requirements and Dimensions | |
Warm-Up Time | < 60 s |
Operating Temperature | 18-30°C |
Storage Temperature | 0°C – 50 °C |
Operating Voltage | 100/115/230 VAC |
Power Consumption | < 150 W |
Communication Options | software/USB |
Laser Head Dimensions / Weight | 240 x 170 x 79.5 mm³ / < 5 kg |
Controller Dimensions / Weight | 19”, 2 HU (449 x 496 x 96 mm³) / < 20 kg |
*Control unit and laser head permanently interconnected by umbilical cord
** Analog input 0-5 V, rise-/fall-time < 300 ns (typ. 180 ns)
*** >100 mW @390 nm (up to 300 mW), arbitrary splitting ratio between 780 nm and 390 nm on request
옵션
- ■ MULTIBRANCH: Additional Seed Ports
- Multiple Ports with optional subsequent frequency conversion to cover multiple wavelengths
■ 390 nm Output Port:
With additional SHG box: free space output at 390nm with up to 300mW
- 다음 제품이 없습니다.
- YLMO 520 - 520 nm·1040 nm 듀얼 컬러 펨토초 Yb 파이버 레이저
